Больше

Celimax Cica Calming Serum Mask

3334300
250,00
р.
В корзину
Маска уменьшает раздражение и покраснение, смягчает и разглаживает кожу.

Снижает чувствительность, увлажняет, поддерживает гладкость рельефа. Гелевая эссенция, которой пропитана маска, имеет лёгкую текстуру и не оставляет липкости.

Тонкое тканевое лекало из микрофибры плотно прилегает к коже, не сползает и комфортно ощущается на лице.

Основные действующие компоненты:
  • Комплекс центеллы азиатской (Centella Asiatica Extract, Centella Asiatica Leaf Extract, Madecassoside) восполняет недостаток влаги, восстанавливает гидролипидную мантию, оказывает успокаивающее действие — снимает раздражение, покраснение, устраняет шелушение.
  • 3 вида гиалуроновой кислоты с разной молекулярной массой: молекулы с высокой массой восстанавливают защитный барьер на поверхности кожи, ускоряют заживление и уменьшают шелушение. Молекулы с низкой массой обладают высокой проникающей способностью, они предотвращают потерю влаги на клеточном уровне.
  • Аллантоин смягчает, интенсивно увлажняет, успокаивает раздражённую кожу.
  • Церамиды восстанавливают целостность рогового слоя, создают защитный барьер, препятствующий трансэпидермальной потере влаги.
  • Аргинин — аминокислота, которая обладает заживляющим и увлажняющим действием.
  • Бетаин удерживает влагу, уменьшает раздражение, придаёт гладкость и мягкость.
Подходит для нормальной, комбинированной, жирной и чувствителньой кожи.
Состав
Способ применения

Состав

Aqua, Glycerin, 1,2-Hexanediol, Dipropylene Glycol, Isopentyldiol, Centella Asiatica Extract (0.2%), Polyglyceryl-10 Laurate, Dimethicone/Vinyl Dimethicone Crosspolymer, Carbomer, Tromethamine, Xanthan Gum, Allantoin, Ethylhexylglycerin, Betaine, Melia Azadirachta Leaf Extract, Disodium EDTA, Polyglyceryl-10 Myristate, Sodium Hyaluronate, Parfum, Butylene Glycol, Melia Azadirachta Flower Extract, Hydrolyzed Hyaluronic Acid, Maltodextrin, Centella Asiatica Leaf Extract, Caramel, Caprylic/Capric Triglyceride, Sodium Acetylated Hyaluronate, Arginine, Ceramide NP, Hydrogenated Lecithin, Tocopherol, Madecassoside (0.005 ppm)

Способ применения

после очищения, тонизирования и использования сыворотки нанесите маску на лицо, распределите. Снимите спустя 10−20 минут, дайте впитаться остаткам эссенции. При необходимости завершите процедуру ухода нанесением крема.